유압 임프린트 리소그래피

Fluid pressure imprint lithography

Abstract

개선된 임프린트 리소그래피 방법은, 몰드를 프레싱하여 기판-지지된 막(A)으로 만들기 위해 직접 유압을 이용하는 것을 포함한다. 유익하게도, 몰드 및/또는 기판은 유압(C)하에서 넓은 접촉 면적을 제공하기 위해 충분한 가요성(flexible)을 가진다. 막에 대항하여 몰드를 시일링하고 가압 챔버 내에 결과 어셈블리를 배치함으로써 유체 프레싱이 달성된다. 또한, 몰드에 가압 유체를 사출시킴으로써 유체 프레싱이 달성될 수 있다. 이 유체 프레싱의 결과로서, 증가된 면적에 걸쳐 해상도와 균일성이 강화된다.
An improved method of imprint lithography involves using direct fluid pressure to press the mold into a substrate-supported film. Advantageously the mold and/or substrate are sufficiently flexible to provide wide area contact under the fluid pressure. Fluid pressing can be accomplished by sealing the mold against the film and disposing the resulting assembly in a pressurized chamber. It can also be accomplished by subjecting the mold to jets of pressurized fluid. The result of this fluid pressing is enhanced resolution and high uniformity over an enlarged area.

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